二氧化硅靶; 硅靶; 特种铝合金靶; 铬靶; 钼靶; 铝靶; 钨靶; 镍铬合金靶; 特种银合金靶;
"欧莱生产适用于TN、STN、TFT、FED、PDP和OLED, CF(彩色滤光片)等各种显示器基础元件制造所需的靶材。主要靶材:二氧化硅、硅(掺杂低阻)、ITO、铬、铝、银、钨、钼、钽等。可根据用户要求提供几乎所有尺寸和形状的靶材。二氧化硅靶:欧莱是世界主要的二氧化硅靶供应商,可适用于各种进口和国产镀膜系统,具有纯度高(99.998%),尺寸大(单片长度可大于1400mm)的优点。 硅靶:经过的搀杂工艺,具有纯度高,电阻率低的优点,是中频双靶氧化溅射工艺的佳选择。氧化铟锡(ITO)靶:纯度:4N 相对密度:99% min.铬靶:欧莱采用的HIP工艺生产成分均匀晶粒尺寸小于50微米可提供世界上大尺寸(单片1400mm)和高纯度(99.99%)的铬靶。"【查看详情】