我公司是从事真空设备的研究、设计、制造和服务为一体的股份制科技企业，也是国内一家生产磁控源的公司，本公司生产的靶材高利用率系列磁控源，靶材利用率至少在40％以上，大大节省了靶材费用，延长靶材更换周期。本公司拥有一支精干的技术骨干队伍，目前公司产品在设备方面主要有磁控溅射电阻镀膜设备系列、对靶磁控溅射镀膜设备、链锁磁控溅射镀膜设备、多弧镀膜机、装饰镀膜机、光学膜镀膜机、真空炉系列等；在真空获得方面有扩散泵系列、阀门系列；磁控源方面有靶材高利用率磁控源系列、可调型磁控源系列、平衡型磁控源系列、非平衡型磁控源系列；电源方面有高频逆变直流电源、脉冲电源以及其他溅射电源，同时，我公司拥有镀膜设备，可为棒状、片状以及其他各种形状的基体进行电阻膜、超硬膜等膜层的加工。公司本着“质量＝生命、信誉＝发展、质量＋信誉＝成功”的原则，竭诚为客户服务。我们的目标：产品质量优，价格具有竞争力！公司拥有国家专利技术——滚落式双阴极平面磁控溅射金属膜电阻镀膜装置。专利号：ZL2.4【查看详情】

• 公司名称： 锦州鑫祺真空设备有限责任公司
• 主营产品： 真空设备、制冷设备、干燥设备、机械设备、电气设备、电子元件、真空镀膜加工制造、销售
• 工商注册号： 2107032040387
• 行政区域： 辽宁锦州
• 经营范围： 真空设备、制冷设备、干燥设备、机械设备、电气设备、电子元件、真空镀膜加工制造、销售
• 注册资金： 人民币500000万
• 企业类型： 有限责任公司(自然人投资或控股)
• 经营期限： 长期