电子级三氟化氮

NF3气体在高能化学激光、电子工业(IC)以及太阳能光电产业等方面具有非常广泛的应用。目前，黎明院拥有一条年产500吨的NF3生产线，其生产工艺、设备均处于国内领 先地位。
　　主要用途：
　　NF3的三个主要用途，一是用作高能化学激光的氟源，二是作为电子工业(IC)中的蚀刻剂、清洗剂，三是应用于太阳能光电产业。
　　NF3其它用途：生产全氟铵盐，用作填充气体以增加灯泡的寿命和亮度，在采矿和火箭技术中用作氧化剂等。
　　物化性质：
　　NF3在室温和大气压力下是无色、稳定和有毒的气体。相对分子质量为71.002，沸点为-129.06℃。
　　NF3在室温下较稳定，但在800~1200℃下发生猛烈分解；NF3是一种有潜力的氧化剂，特别是在约200℃时，其反应性与氧相当；NF3在与其它元素反应时主要用作氟化剂；NF3在常温下不与水、稀酸和稀碱溶液反应，但在100℃下与碱性溶液接触时会缓慢水解生成亚硝酸盐及氟化物，在电火花作用下，NF3可与水猛烈反应；NF3与H2或氢化物可快速反应并放出大量的热，该反应是NF3用于高能化学激光器的基础；NF3可与有机物作用，但通常需升高温度以引发反应，因而常常发生爆炸；在低于70℃时NF3气体对普通金属不腐蚀，因此可用钢、不锈钢、镍、铜和铝等材料制作相关设备。
　　安全数据：
　　NF3是一种有毒、不可燃的压缩气体；
　　无气味，但其中所含的杂质使它闻起来有发霉的气味；
　　暴露极限： OSHA: PEL=10ppm. ACGIH: TWA/TLV=10ppm. NIOSH: 1000ppm.当进入浓度超过暴露极限的泄方区时需配备自给式呼吸器(SCBA)；
　　氧化剂，会引起或促进金属和非金属物质的燃烧，特别是温度超过200℃时；燃烧产物有毒；
　　使用NF3的任何系统都不应有油、油脂和其它有机物；
　　存储于钢瓶中，压力小于1500psig，盛装NF3的气瓶不允许在52℃的环境下使用、贮存和运输。
　　包装规格：
　　包装：高压无缝碳钢钢瓶
　　包装规格：47L国标或DOT瓶、470L Y瓶等。

      黎明院生产现状：

　　黎明院现有一套年产500吨的三氟化氮生产线，以生产4N以上规格的产品为主，并可提供GB/T 21287-2007指标中其它规格产品。
　　2008年，黎明院NF3产品通过了台湾某著 名企业严格的清洗蚀刻试验，完够满足其生产需要，已进行了批量采购，目前反馈的使用报告表明黎明院NF3产品质量良好，并确定黎明化工研究院为NF3气体合格供应商。
　　2009年黎明院NF3生产工艺、质量控制、分析方法及产品质量通过了日本某著 名气体厂商的仔细考察与严格检验，气体检测结果表明，黎明院的NF3产品质量已达到国际水平，随即与黎明院签署长期合作协议，开始批量采购。

黎明化工研究设计院有限责任公司