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电阻蒸发源用于蒸发低熔点材料，如：金 银 硫化锌 氟化镁 三氧化二铬 等，
电阻蒸发源采用低电压大电流，一般电压为4-8V，电流为100-300A ,大电流通过电阻蒸发源时，产生等焦耳热使蒸发源升温，进而加热膜料。
溅射磁控溅射镀膜设备溅射镀膜有多种方式：可分为直流二级溅射，直流三级溅射，直流四级溅射，磁控溅射等，为适应制作各种薄膜的要求所做的进一步改进，反应溅射就是在Ar中加入反应气体，如：N2 O2 CH4 C2H2 等可制备靶材料的氮化物，氧化物，碳化物等化合物薄膜
阴极电弧离子镀是把真空弧光放电用于蒸发源等一种离子镀技术，他们电弧形式是在冷阴极表面形成由若干微弧组成的电弧斑点，因此也称多弧离子镀
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