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中频磁控溅射镀膜设备采用直流溅射镀膜技术提高了介质膜等沉积速率倍速,该设备广泛用于钟表,高尔夫球,五金,餐具等镀:Tin Tic Tich Crn 等各种装饰涂层,
制膜种类:多功能金属膜,复合膜,透明导电膜,增反射膜,电磁屏蔽膜,装饰膜
电源类型:直流磁控电源 中频磁控电源,高压离子轰击电源。
极限真空:6 X 10 - 4 pa
备注:真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
日用陶瓷镀膜设备主要用于瓷砖,日用陶瓷,工艺陶瓷等离子镀膜,
电源类型:电弧电源, 灯丝电源,直流中频电源,脉冲偏压电源
真空系统:机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵
极限真空:6.0X 10 -4pa
备注:真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求
大型电子束蒸发光学镀膜机配备电子枪,穴型,腰型或环形坩锅,阻抗式蒸发源,还配置了光学膜厚控制仪或石英晶体膜厚控制仪,可实现成膜速度,和镀膜过程中的自动控制,
可选射频RF/考夫曼型/霍尔离子源
可制备AR,UV/IR,截止滤光片,AF,硬质膜,装饰膜,ITO膜 ,HR膜 等
高精密电子束蒸发光学镀膜机在玻璃/PC/PM/MA基片上形成光学多层薄膜等精密真空镀膜机,将满足客户需求等多种元件组合在一起,可以形成品质更加优良等薄膜
基片伞架采用中心旋转方式,减少产生震动和颗粒,使基片可以稳定旋转
采用坩锅上没有基片的电子束加热方式作为蒸发源,可以稳定地形成多层膜
溅射磁控溅射镀膜设备溅射镀膜有多种方式:可分为直流二级溅射,直流三级溅射,直流四级溅射,磁控溅射等,为适应制作各种薄膜的要求所做的进一步改进,反应溅射就是在Ar中加入反应气体,如:N2 O2 CH4 C2H2 等可制备靶材料的氮化物,氧化物,碳化物等化合物薄膜
阴极电弧离子镀是把真空弧光放电用于蒸发源等一种离子镀技术,他们电弧形式是在冷阴极表面形成由若干微弧组成的电弧斑点,因此也称多弧离子镀
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